在材料科學(xué)、冶金工程、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域的快速發(fā)展中，高溫接觸角測量儀憑借其獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢，成為研究材料高溫界面行為的關(guān)鍵工具。該儀器通過精確測量液體與固體在高溫環(huán)境下的接觸角，揭示材料的潤濕性、表面張力及動(dòng)態(tài)變化規(guī)律，為科研和工業(yè)應(yīng)用提供了重要數(shù)據(jù)支持。

產(chǎn)品型號(hào)：SDC-1500

更新時(shí)間：2025-12-19

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問量：240

服務(wù)熱線

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

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產(chǎn)品介紹

高溫接觸角測量儀配置：

設(shè)備規(guī)格
設(shè)備主機(jī)
外形尺寸	1730mm（長）×700mm(寬)×1420mm(高)
重量	500KG
整機(jī)調(diào)節(jié)	整機(jī)水平測試/調(diào)節(jié)
電源
電壓	220～240VAC
功率	7000W
頻率	50/60HZ
空間
加熱臺(tái)尺寸	99.99%氧化鋁材質(zhì)加熱板,尺寸（長×寬）：49mm×49mm ，45mm×45mm
最大試樣	40mm×40mm
樣品臺(tái)調(diào)節(jié)	水平調(diào)節(jié)
攝像系統(tǒng)
最大圖像	5000（H）× 4000（V）
最高幀率	200fps（可升級(jí)更高幀數(shù)）
傳感器	SONY 1/1.8"
光譜	黑白/彩色
ROI	自定義
顯示線寬	自定義
曝光時(shí)間	自定義
電源	5 VDC USB 接口
傳輸	USB3 Vision
顯微鏡頭
焦距	650mm±5mm（變焦調(diào)節(jié)）
倍率	10倍
視角調(diào)節(jié)	傾斜-10~10°精度±0.1°；左右前后±25mm，高度±10mm；整體模塊實(shí)現(xiàn)快速切換移動(dòng)位置，行程不低于150mm具備鎖止功能
分辨率標(biāo)度	4～14um
采集系統(tǒng)調(diào)節(jié)	俯視/仰視/平視
光源
類型	單波長工業(yè)LED（冷光）
波長	460nm
光場	80mm×80mm
光點(diǎn)	150粒密集式
壽命	50000Hour
高溫系統(tǒng)
高溫爐	硅鉬棒加熱，恒溫區(qū) 120mm（長）
	30段智能控溫，最高升溫速率≤10℃/min，控溫精度，1000℃以下，±0.1℃，1000℃以上，±1℃
	常壓下常溫至1500℃，真空下常溫至1400℃

	99.99% 高純度氧化鋁材質(zhì)加熱管及石英管，長度 1000mm，管外徑 60mm,內(nèi)徑50mm
	雙溫控，測試加熱管內(nèi)外溫度
	雙冷卻裝置，5-35℃溫控，流量15L/min冷卻系統(tǒng)容量≥11L，制冷量1520W
	不低于兩路保護(hù)氣接入控制系統(tǒng)
	同軸雙邊視窗采用進(jìn)口石英，易拆裝
真空泵	機(jī)械泵（真空度10Pa），分子泵（10^-3Pa）可選配
	真空范圍機(jī)械泵（10⁵~10^-3Pa），分子泵（10⁵~10^-7Pa）
軟件
接觸角范圍	0～180°
分辨率	0.01°
溫控設(shè)置	設(shè)置30段升溫程序，啟停控制
接觸角測量方式	全自動(dòng)、半自動(dòng)、手動(dòng)
分析方式	停滴法（2/3態(tài)）、座滴法、懸滴法
分析方法	靜態(tài)分析、潤濕動(dòng)態(tài)分析、實(shí)時(shí)分析、雙邊分析
測試方法	圓法、橢圓/斜橢圓法、微分圓/微分橢圓法、Young-lapalace、寬高法、切線法、區(qū)間法
表面自由能
測試方法	Zisman、OWRK、WU、WU 2、Fowkes、Antonow、Berthelot、EOS、粘附功、浸濕功、鋪展系數(shù)
數(shù)據(jù)處理
輸出方式	自動(dòng)生成，可導(dǎo)出/打印EXCEL、Word、譜圖等多種報(bào)告格式

選配標(biāo)準(zhǔn)附件	以下附件為標(biāo)準(zhǔn)選配品，也可根據(jù)自身測量要求給予量身制做
加熱管
	99.99% 高純度氧化鋁材質(zhì)加熱管及石英管規(guī)格：長度 1000mm，管外徑 60mm,內(nèi)徑50mm
加熱板
	99.99% 高純度氧化鋁材質(zhì)基板尺寸：49mm×49mm ，45mm×45mm
高速相機(jī)
	主用于高幀率測試要求的客戶多組規(guī)格可選，最高幀率：4500幀/秒
Plasma等離子設(shè)備
	用于提高材料表面活性，提升材料表面自由能，降低接觸角角度可選配：大氣，真空，微波，寬幅等設(shè)備